真空沉积技术

概述

真空沉积技术是真空镀膜。真空气相沉积是利用热蒸发或辉光放电、弧光放电等物理过程，在基材表面沉积所需涂层的技术。

2百科释义

真空沉积技术是真空镀膜。真空气相沉积是利用热蒸发或辉光放电、弧光放电等物理过程，在基材表面沉积所需涂层的技术。

9词语组词

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本词条最后更新于 2026-06-30 04:20:36

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